淡然若水

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英特尔、三星、台积电都得排队抢购 ASML推出新一代High N光刻机

(2021-12-12 00:38:50) 下一个

近日,国际光刻机巨头ASML推出了全新光刻机产品-新型High NA (High Numerical Aperture高数值孔径技术)光刻机。据悉,新型High NA光刻机采用了全新的光学设计,拥有更高的分辨率,可以有效缩小芯片约1.7倍左右,与此同时还能提高芯片的晶圆密度到2.9倍左右,缩小体积同时性能大幅提升,随着High NA光刻机光学分辨率的提升,给未来芯片制造技术层面的突破带来更多的可能(可以轻松突破3nm制程工艺甚至更低)。据官方介绍,新型High NA光刻机的推出还可以极大的提高生产效率,缩短生产时间,降低芯片生产的废品率及成本。

当前,英特尔、三星及台积电采用的是EUV(极紫外线)光刻机, 目前极限制程可以达到3nm,EUV光刻机的零件有10万,需要40个集装箱运输,单机售价高达1.4亿美元,想要达到量产一台可远远不够。而这台新型High NA光刻机拥有更大的体积,更复杂的设计以及高达3亿美元的售价。目前,有消息称英特尔已经向ASML预定该设备期望能够成为第一个拿到新型High NA光刻机。当然,相信三星和台积电也一定不会置之不理。

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Cramer123 回复 悄悄话 回复 'mixo' 的评论 : 你道出了精髓~~~~
Cramer123 回复 悄悄话 回复 'dong140' 的评论 : 只能話係台積電好。
破棉袄 回复 悄悄话 dong140 发表评论于 2021-12-12 07:51:01
問你一個技術問題。既然芯片用光刻機生產。為什麼英特爾現在芯片技術落後於台積電。是因為英特爾不會很好使用光刻機嗎?
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你说的对!准确的说,是台积电学会使用了EUV,其他人(intel和三星)都用不好。
mixo 回复 悄悄话 英特爾雇了印度人,印度人会吹
dong140 回复 悄悄话 問你一個技術問題。既然芯片用光刻機生產。為什麼英特爾現在芯片技術落後於台積電。是因為英特爾不會很好使用光刻機嗎?
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