个人资料
喜大普奔
喜大普奔
给我悄悄话
  • 博客访问：
正文

中国造出全球首台新式光刻机 芯片荒有救了(图) ZT

(2018-11-30 11:53:27) 下一个

中国造出全球首台新式光刻机 芯片荒有救了(图)

文章来源:  于  - 新闻取自各大新闻媒体，新闻内容并不代表本网立场！
(被阅读 39648 次)
 



中国在芯片领域遭遇西方掣肘（图源：VCG）



北京时间11月29日，中国科研机构宣布“超分辨光刻装备研制”项目通过验收，成为全球首台用紫外光源实现的22纳米分辨率的光刻机




据中国《科技日报》报道，中科院光电技术研究所项目副总师胡松透露，新验收的光刻机，使用了365纳米紫外光的汞灯，一只费用仅为数万元（1元人民币约合0.1438美元），而光刻机整机价格在百万元至千万元级。





中国科研机构研制新型光刻机（图源：中科院科技摄影联盟）



胡松还说，中科院光电技术研究所研制的光刻机加工能力介于深紫外级和极紫外级之间，“让很多用户大喜过望”。



光刻机是集成电路制造业的核心角色。目前，使用深紫外光源的光刻机是主流，成像分辨力极限为34纳米，分辨率进一步提高要用多重曝光等技术，很昂贵。



光刻机巨头荷兰ASML公司垄断了尖端集成电路光刻机，加工极限为7纳米。ASML的EUV光刻机使用的13.5纳米的极紫外光源，价格高达3,000万元，还要在真空下使用。



而中科院光电技术研究所的光刻机分辨率为22纳米，擅长加工一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片和超表面成像器件。



报道称，中科院光电技术研究所目前已掌握超分辨光刻镜头、精密间隙检测、纳米级定位精度工件台、高深宽比刻蚀和多重图形配套光刻工艺等核心专利，“技术完全自主可控，在超分辨成像光刻领域国际领先”。



虽然中国科研机构研发出新型光刻机，但荷兰ASML公司研制的光刻机仍是中国客户的首选。今年的5月底，据荷兰媒体报道，中国芯片巨头“长江存储”从ASML订购的价值7,200万美元的光刻机运抵湖北武汉。



另日本媒体报道，中国另一家芯片制造企业中芯国际也向ASML公司订购一台价值1.2亿美元的光刻机，预计将在2019年交货。



继中兴通讯、福建晋华后，据报道，美国考虑制裁中国监控设备巨头海康威视，切断芯片供应。而这会促使中国加快应用国产装备的步伐。

?


相关新闻

 

京工人 发表评论于 
完了，2025年高端芯片被中国下放到县一级工厂生产，论斤卖，高通英特尔台积电统统倒闭，中国芯片千秋万代一统江湖
一条小路 发表评论于 
好！可以與美國斷交了。二胖贏了。
乱石穿空 发表评论于 
theriver1 是内行。有一点商榷，台积电7nm还是用的DUV。
世界之央 发表评论于 
因为这是新路子尝试的开始，新路子的不断提高（任何最先进技术都是一步步走出来的），将使该领域进入新的阶段。

目前，至于用10000块买最先进的还是用100块买比较先进的，都是市场决定的。市场也会使该领域进入新的阶段。。。新路子在不断提高中，100块就可能买到最先进的了，那么目前的最先进就没有活路了！
cohcoh 发表评论于 
不要和台积电的7纳米制程混淆了。太极殿不生产光刻机，只是在制程上实现了7纳米。中国大陆这台光刻机虽然是22纳米，在制程上可以达到10纳米。还是比较先进的。
其实这个光刻机早就研制出来了，一直在认证。现在认证通过，说明良品率等等指标都已经达到行业标准，接下来就是量产了。还在认证中的有10纳米级别的光刻机。
中国真的是发达国家绞肉机啊。芯片要是解决了，将大大缩小中美技术上的差距，尤其是信息产业，人工智能……太多了。
北卡山人 发表评论于 
中兴可以解套了？呵呵。前几年报道某某中国制药公司做出了某种癌症体外细胞线，于是乎中国制药业达到世界水平……吼吼
老品闲 发表评论于 
网上看到另一个很好的比喻:这就像是初期的枪械与最厉害的弓箭的对比。早期枪械，比如火铳，无论是射击精度还是射击距离都远远比不上厉害的弓箭；但是很快，狙击枪就把弓箭甩开十万八千里了。
老品闲 发表评论于 
最讨厌的就是不明白怎么回事，不看别人发言就胡说八道。汽油汽车刚开始速度比马车慢得多，但那是革命性的，看看现在汽车跑得多快?
 
tina0 发表评论于 
如果用一个新技术新方法生产出来的产品，甚至赶不上现有产品的性能，这个新技术新方法有多意义？还被称作翻天覆地的变化，不是很可笑吗？如果说这对中国而言意义重大，因为是从无到有，也许还说的过去。但用上世界，全球这样的字眼，除了忽悠，没别的意义。有一天还是会像东兴那样，被揭的体无完肤。
世界之央 发表评论于 
如果忽略成本，和世界最先进比，这个不是最好的。但是，这个预示着该领域的翻天覆地的变化。

使用深紫外光源的光刻机是主流，如荷兰ASML公司。成像分辨力极限为34纳米，多重曝光，很昂贵。
而中国这个在365纳米波长光源下（普通紫光），单次曝光最高线宽分辨率达到22纳米（加工能力介于深紫和极紫之间）。也就是说，突破了分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线。更形象一点说是以前的“宽刀”就变成了现在的“窄刀”。成百上千的提高了性价比，这是市场的福音！
tina0 发表评论于 
很高兴楼下这位点出了两者的差别，首台不一定是第一，而这也恰恰揭示出中宣部媒体忽悠百姓经常使用的小伎俩。因为读者阅读的时候，没人会去认真计较这两个字之间的差别，反而经常把它们混为一谈，让大多数人还真以为第一了。反正只要不被中兴芯片这样的事揭出来，谁也不会去计较真假。这就是中宣部媒体所要达到的目的。中移花接木，篡改概念，张冠李戴等等是中宣部媒体经常使用的小伎俩。最后集大成一个，厉害呀我的国。
hachimada 发表评论于 
在汉语中，“首台”和“第一”不是一个概念，首台是最先，第一是最好。什么时候有人说这台光刻机是世界最好，再喷不迟。
shanemshane 发表评论于 
楼下喷的应该是不懂芯片的。所谓新式是指新的原理，巧妙绕过了现有国外的技术专利，可以在很大程度上自行开发生产，不是说业界最强。市场上大多数芯片是不需要7nm的，这基本就解决了大陆商业芯片有无的问题。就像当年的原子弹，虽然不是最大当量的，但存在就意味着技术威慑，可以在国内市场和国际市场开始拼了。
hachimada 发表评论于 
哈哈，有人对“全球首台”过敏啊。这的确是全球首台用365nm紫外灯实现22nm分辨率的光刻机。离先进水平差得远，但也许是一条新路子，因为成本低很多。这不叫吹牛，明白？
X723 发表评论于 
別人造得出來的東西，你也應該造得出來這是常識。
世界之央 发表评论于 
虽然这个中国自行造的光刻机单次曝光最高线宽分辨力只有22纳米（结合双重曝光可制造10纳米级别芯片）， 但是这不是这个光刻机的看点，主要看点是采用新技术，（也就是目前还没有普及的，中国是第一个创新并应用的）。

这将使中国在该领域实现变革性战略的跨越发展。也就是说，中国不是完全照搬现有技术，而是超越现有技术从而实现更新一代技术的跨越。很多领域都是沿着这条路走的，比如航空发动机，中国的矢推是世界上唯一量产并真正安装到飞机上应用的3D发动机。美俄目前应用的都是2D平面的。。。
pants 发表评论于 
这应该算技术积累过程的一个里程碑，不需要考虑工业化。
等再积累几年大家都到半导体极限瓶颈卡住了就可以赶上可以考虑工业化量产了
超流隧道 发表评论于 
问题是中科院光电所的365纳米紫外光汞灯光源是如何实现成为极紫外光源的？几年前有报道，山东大学成功研发出高转换率极紫外倍频非线性光学晶体，出口荷兰ASML公司，迫使该公司不得不解除对中国的产品禁运。从365纳米倍频到10纳米，那得倍频多少次啊？即使按照17%的转换率，其中浪费掉的电能有多少啊？
abraham007 发表评论于 
大家不要着急。
--说实在的，我看到这则新闻没有一点着急的感觉。难道垃圾华人着急？为啥呀？说说吧，说出来好受些，呵呵
胡小海 发表评论于 
回复网友评论 hachimada -----------
有人正儿八经地质疑“全球第一吹牛”，可是阅览全文，我也没看见任何一处说全球第一了。那还有什么好质疑的呢？只不过是有人不吐槽就憋得慌而已。
-----------------
成为全球首台
这么大的字没看见啊？
胡小海 发表评论于 
回复网友评论 purewater66 -----------
身穿超净服，手却不戴手套。不伦不类。
-----------------
戴了，但是是肉色的，因为领导喜欢看肉色丝袜。
一点小看法 发表评论于 
好使么？
hachimada 发表评论于 
有人正儿八经地质疑“全球第一吹牛”，可是阅览全文，我也没看见任何一处说全球第一了。那还有什么好质疑的呢？只不过是有人不吐槽就憋得慌而已。
hachimada 发表评论于 
“用便宜的紫外灯达到了22nm的分辨率”，这有什么好喷的吗？没人说这是世界最先进，所以“中国差多少代”云云都是无厘头的斗嘴而已。
shakuras2000 发表评论于 
大家不要着急。这里没有学科学和工程专业的么？
我的经验是，中文的科技新闻全都不可信，不是内容造假，而是文字编辑的
科学素养太差，往往重要的忽略，不重要的瞎吹
超流隧道 发表评论于 
荷兰ASML公司用34纳米的光学分辨率做出了7纳米线宽的芯片，按照这个比例，中国SMEE公司用22纳米的光学分辨率做出4纳米线宽的芯片不是很难的，这其中用到的推进技巧不过是摩尔(Moire)条纹技术而已。做机械的或者做光学的工程师，谁没有见过摩尔(Moire)条纹技术的应用呢？我家测量直径用的千分卡的刻线分辨率只有毫米级，却可以测得0.1毫米的精度，用的就是摩尔(Moire)条纹技术呀。不过，用22纳米的光学分辨率做出4纳米线宽的芯片，需要用到5次曝光5次刻蚀技术，如果中国工程师能够做成7次曝光7次刻蚀技术，那就是真的牛了。
老品闲 发表评论于 
TO:theriver1

你的比喻才是胡扯。好好看看这个技术。

如果你脑子还是不够用，就看看中国人近年造出来多少高精尖设备让国外天价设备变成了白菜价。
 
枫红满山 发表评论于 
2025，稳步推进。在华夏，总有真正的脊梁负重前行！大国智慧，必须要有自己的大国匠心来支撑。前面高层，资改派很享受做长工的味道。习不一样，奋力追赶，带领国际群众共同富裕。谁都知道，中国的科技进步最可能导致白菜价。哈哈，得又有了将要哭晕在厕所了
90034 发表评论于 
吼吼吼吼，，，怎么感觉有人看到这个消息快要急死了。。。。
Armin 发表评论于 
现在解决的是有没有的问题，没人说这是最先进的，高精尖的芯片做不出来，一般的还是可以的，一步一步地走到不被美帝卡脖子，到那时你生产的高精尖芯片，我不用，你的产品没了市场，公司还能生存吗？注意中国是全球芯片第一用户，所以老蘑菇禁了中兴的时候，美国芯片公司也一片愁云惨雾。老蘑菇是地产商兼卖贴牌裤衩的当然不会明白这些了。
实话100 发表评论于 
中国的很多东西只要还没到应用就不要太当真。因为很多都是立项要资金为目的的。
theriver1 发表评论于 
老品闲 发表评论于 2018-11-30 04:42:19
反中的心里很不是滋味，质疑22纳米不如7纳米。奔驰做出来第一辆真正意义上汽车的时速只有不到20公里，远远低于马车。
------------------------
这个比喻不恰当。应该这么比喻，几个国际知名大厨在最好的炉子上经过大量实践，花费大量时间，终于开发出了最美味的菜系，并以此垄断了饮食界。这时有人研发出所谓最新式的微波驴，并且自吹说用这个新式微波驴能够做出一样美味成本又低的多的菜肴。问题是，吹牛容易实现难。难在三个方面：1.你怎么用微波驴做出复杂的菜？2.你怎么找到愿意潜心钻研冒着巨大职业风险搞出美味微波驴菜肴的知名大厨？ 3.最关键的，培养一个知名大厨不容易，好大厨都是要在炉具上经过十几年反复实践才最终锻炼出熟练的刀工和火候等烹饪技巧，你说你微波驴大厨能弯道超车，你骗谁呀？！
wjhwsh 发表评论于 
虽然离世界先进水平还差的很远，但毕竟是自力更生的产物，台积电和三星都没有自己的光刻机，美国限制其实反而帮助了中国，如果不是美国制裁我相信中国的半导体还是不会引起重视
whatyouknow 发表评论于 
一语道破天机，本来就是一个裆妈的报道，笑笑而已。摆拍的人太粗心了，防护服不伦不类！

purewater66 发表评论于 2018-11-30 05:12:30
身穿超净服，手却不戴手套。不伦不类。
Etornado 发表评论于 
楼下的，现在质疑的不是你做出来差世界主流几代的光刻机，而是质疑你又在吹“全球第一”之类的牛。奔驰做出来第一辆真正意义上汽车时并没有天天吹他们的汽车比马好，比马快！奔驰从来都是低头做事，想法挺高品质和性能，没有天天去宣传说他们的产品怎么个吓尿英法，还是吓傻美国。
purewater66 发表评论于 
身穿超净服，手却不戴手套。不伦不类。
whatyouknow 发表评论于 
楼下乌毛们，有你裆妈的宇宙真理还需要芯片？
liamsun 发表评论于 
虽然中国科研机构研发出新型光刻机，但荷兰ASML公司研制的光刻机仍是中国客户的首选。hahaha
老品闲 发表评论于 
反中的心里很不是滋味，质疑22纳米不如7纳米。奔驰做出来第一辆真正意义上汽车的时速只有不到20公里，远远低于马车。
theriver1 发表评论于 
hachimada 发表评论于 2018-11-30 01:49:20
个人认为，把文章看明白再发帖是良好习惯。很多人并没有仔细看文章，却张口胡说。此光刻机的创新点并非是达到最高加工工艺水平，而是用长波紫外光源达到了深紫外和极紫外光源之间的加工水平，从而大大降低了22nm光刻机的成本。
-----------------------------------
你在好好想想到底是谁在张口胡说的。你最后一句提到的所谓22nm光刻机，指的是目前最流行的193nm的深紫外（准分子激光ArF）光源的光刻机采用沉浸式二次曝光后，其大规模量产制程在2010年研发出后所支持的分辨率。人家在8年前都已经能够大规模量产了，而你到现在连是否能生产芯片都还八字没一撇呢，你就好意思去和人家8年前就能大规模量产的设备去比成本？你是故意胡说呢还是脸皮厚呢？
90034 发表评论于 
报道的这个嘛肯定是在说梦话的。。。快点把这些都告诉川普，让他老人家宽宽心，
90034 发表评论于 
反正中国报道的飞机都是钢丝绳吊着的，报道的火车都是纸糊的，其它会动的都是电脑动画的。。。
泰傻 发表评论于 
白日看此文，夜里梦更美。
挺没劲 发表评论于 
希望是真材实料，而不是弄虚作假或者毫无应用价值只是用来取悦领导的
theriver1 发表评论于 
相当长久 发表评论于 2018-11-29 22:44:18
懂的网友能否解释一下， 这22纳米的程度和7纳米不是相差很多吗？ 有什么值得庆幸的？又为何强调是全球首台新式。。。？
----------------------------------------
这个新闻确实是个大忽悠，很容易造成歧义。22纳米和7纳米，唯一相同的地方就是都描述的是“单次曝光最高线宽分辨率”。其它完全风马牛不相及：前者是中科院用365nm的光源（是汞灯，不是激光）采用LSP方法间接获得超衍射聚焦光斑,并将其应用到超衍射纳米光刻中，最终达到22nm的分辨率。而后者是ASML采用13.5nm的光源（准分子极紫外光EUV），用沉浸式二次曝光的光学投影的方法投射在带有光感涂层的硅晶圆上所能达到的分辨率。7nm是指目前已经投入量产的制程所能实现的最小分辨率。前者目前还无法用于生产集成电路，而后者工艺和制程全都基本成熟了。后者已经是第十二代了，而前者连第一代都还遥遥无期呢，所以二者根本就没有可比性！...  查看完整评论
ytwadk 发表评论于 
这就像生命就要终结，再给打一针强心剂。体制的腐烂是什么技术都救不了，别忘了科学技术解救不了中国。
Panda44 发表评论于 
有人头才是真有用的，否则一堆废物
theriver1 发表评论于 
人家台积电的7nm EUV工艺已经投入试产，完成了客户芯片的流片工作，同时宣布5nm工艺将在2019年4月开始试产，量产则有望在2020年第二季度。中芯国际现在在台积电眼里已经没有任何威胁性了，因为差距实在太大了。三星的7nm LPP EUV工艺也快量产了，高通新一代的5G基带就会采用三星的7nm LPP工艺。
这些代工巨头们在先进制程持续竞赛，意味着EUV工艺就要正式产业化，一旦产业化，还有谁敢与ASML争锋？还有任何可能替代ASML吗？
theriver1 发表评论于 
山地 发表评论于 2018-11-29 23:11:54
这就是为什么ASML公司以前不卖给中国光刻机，现在愿意卖给中国光刻机的原因。
-----------------------------------------
网评员们最爱用的除了偷换概念就是造谣。人家ASML从没说过不卖给中国光刻机。人家只不过迫于美国商务部的压力，不卖给中国的研究所和军工企业。类似中芯国际这种私企，人家不是一直都卖的？当然啦，最尖端的EUV光刻机，人家当然要先卖给台积电、三星和Intel啦，若没有这几个大佬的鼎力支持，ASML哪有资金和技术实力搞出EUV光刻机来。等满足了所有大佬再卖给中芯国际，已经是两年后的事情了，问题是，芯片行业，两年就意味这差了整整一代。本来中芯国际在制程研发上就严重落后，在专利上又被台积电彻底卡了脖子，如今再有两年的设备差距，与国际芯片大佬的差距只会越来越大，怎么可能超越人家？
theriver1 发表评论于 
所谓LSP纳米光刻技术,即通过利用长波长光源照明亚波长尺寸的探针或小孔,在探针或者小孔与介质的界面处激发LSP,LSP在探针针尖或者小孔间隙处急剧振荡形成LSP共振,利用表面等离子体(SP)的短波长特性获得超衍射聚焦光斑,并将其应用到超衍射纳米光刻中。然而在基于LSP共振纳米光刻中,由于LSP振荡产生的携带高频信息的倏逝波仅在激发结构的表面传播,在垂直于激发结构表面方向上以指数形式衰减,这就要求在LSP纳米光刻中,激发结构与光学记录介质的距离必须在几个纳米的范围内,而这必然带来距离控制的难题。同时倏逝波在垂直结构表面方向指数衰减的场分布也会导致纳米光刻图形曝光深度浅、对比度低、边缘模糊的问题。没有巨大的投入和革命性的理论突破，这些LSP共振纳米光刻的致命特性怎么可能轻易得到解决？
theriver1 发表评论于 
中科院光电技术研究所项目副总师胡松透露：“ASML的EUV光刻机使用的13.5纳米的极紫外光源，价格高达3000万元，还要在真空下使用。”。。。“而我们使用的365纳米紫外光的汞灯，只要几万元一只。我们整机价格在百万元级到千万元级，加工能力介于深紫外级和极紫外级之间，让很多用户大喜过望。”
--------------------------------------
这个中科院光电所的项目副总师，要么是个芯片领域的外行，要么就是个彻头彻尾的骗子。他把两种完全不同原理的设备并列起来对比，真是无耻到极点了。大家都不是傻子，等离子体(LSP)纳米光刻技术，做得到集成电路生产工艺所需要的关键特性：方向性強、波長純度高、輸出功率大吗？除了激光，还有什么方法能够这些基本要求？！
席办 发表评论于 
我爱宝岛台湾 发表评论于 2018-11-29 22:34:56
舔美一族又不开心哦。—啃定是中国偷别人技术。
------------
你是啃腚的中国一族？你爱台湾可以，别去污染
蓝山雀 发表评论于 
Etornado 说得靠谱。

芯片不仅是软件，更重要的是材料，硬件。这不是短期就能搞定的。
不踏踏实实沉下去高研发，总是用这些普大喜奔的消息亢奋自己，正常吗？
gunit 发表评论于 
自己信吗？
hachimada 发表评论于 
个人认为，把文章看明白再发帖是良好习惯。很多人并没有仔细看文章，却张口胡说。此光刻机的创新点并非是达到最高加工工艺水平，而是用长波紫外光源达到了深紫外和极紫外光源之间的加工水平，从而大大降低了22nm光刻机的成本。
sigmazao 发表评论于 
我一直认为，数学物理这个领域，是华人优势领域。从以前的电脑，到机电工程，精密仪器，光学工程等，或者说东亚人，脑力从来不问题。整个东亚拥有世界上最顶尖的精密机电光学工程师团队，不是偶然。成本控制可能尚有不足，但是芯片设计制造，中国一定会自力更生，满足自己需求。
theriver1 发表评论于 
亲爱的俄67大妈，求你了，少说两句吧。你这几句一说出口，就暴露了你对目前芯片光刻技术和理论完全外行，你说得越多，越丢人现眼。中科院搞出的光刻机，采用的原理是局域表面等离子体(Local Surface Plasmon)纳米光刻技术，简称LSP纳米光刻技术。你先不要讨论所谓弯道超车的问题，我们先说点具体的：这里不考虑材料、工艺、制程，甚至良率等量产问题统统不考虑，我就问你两个问题：1.采用LSP纳米光刻技术研制出的光刻机，做得出芯片来吗？ 2.如果现在做不出芯片，你估计何时能做出？
theriver1 发表评论于 
长剑倚天 发表评论于 2018-11-29 23:18:57
在光刻机研制方面，我们一直有两个选择：沿用ASML的老路走一遍，还是另辟蹊径通过新原理弯道超车？我们国家很有钱，两个选择都在做。而这台SP光刻机的研制成功，就是让我们看到了弯道超车的可能性。其实从原理上，这简直就不是弯道超车了，而是在别的人还在绕山路的时候，我们尝试着打了一条隧道……虽然还没有完全挖通，但曙光就在眼前了。这就是这台新式光刻机的最大意义！
------------------------------------------
亲爱的俄67大妈，求你了，少说两句吧。你这几句一说出口，就暴露了你对目前芯片光刻技术和理论完全外行，你说得越多，越丢人现眼。中科院搞出的光刻机，采用的原理是局域表面等离子体(Local Surface Plasmon)纳米光刻技术，简称LSP纳米光刻技术。你先不要讨论所谓弯道超车的问题，我们先说点具体的：这里不考虑材料、工艺、制程，甚至良率等量产问题统统不考虑，我就问你两个...  查看完整评论
长剑倚天 发表评论于 
X射线有研究的，但技术也出现了瓶颈！
至于半导体材料那是另外一个课题，请不要混为一谈！
Etornado 发表评论于 
长剑倚天，你錯了。目前的技術瓶頸不在光刻製程。紫外線不夠細，可以用X射線，X射線不夠還有伽馬射線。但半導體材料才是瓶頸口。你所說的“中科院的另一种思路”對超車没多大幫助。

目前半导体最顶尖的材料研发还是在老美手上，劳伦斯柏克莱实验室研发成功1纳米的半导体晶体，他们是用纳米碳管做材料。这个碳管的管壁仅由2-3原子组成。
fengfengloup 发表评论于 
狗子们不懂行的就不用瞎说了。 都只是开始，五年后你们再看看吧。
长剑倚天 发表评论于 
楼下自己好像不会动脑子一样。
简单来说，世界主流用的方法已经到了极限，而中科院的是另一种思路没有极限。
明白他们的区别吗？谁的思路更有前途呢？
Etornado 发表评论于 
造出自己首台新式光刻机是好事，但宣传上不要胡说八道，会让懂行的人笑话。22纳米制程的光刻机在2006年就被研发成功了，但真正放到大规模生产时是2011年，因为这个良率是非常重要的，否则就是亏到破产。2006年时候，半导体世界最前沿生产技术是65纳米，而目前是7纳米，按照目前半导体生产每两年进化一代计算，中科院光电技术研究所这个技术和世界主流差了7代！这个就像拿着活塞式飞机跟隐形战斗机在打一样。
长剑倚天 发表评论于 
乱石穿空 发表评论于 2018-11-29 23:40:51 
在极紫外EUV13.5nm之前的深紫外DUV光源波长是193nm.365nm怎么在深紫外和极紫外之间了？光源的映射极限受波长限制，这是物理极限，没法突破的。你波长比别人长，还不用多次曝光，骗谁呢？台积电用深紫外做到7nm，你22纳米怎么就全球第一了呢。
================================================================
原理不同！自己不清楚，但可以学习啊，要不网络是干什么用的呢？上来就瞎评论，这个习惯不好啊。
简单说：ASML 用的原理是：通过物镜系统将将掩膜版上的图案进行缩印成像。涉及到成像过程，就不得不考虑光的衍射极限。
而中科院用的原理是：利用物体表面等离子体波进行光刻。从原理上就不再受到传统衍射极限的限制。
SoWhatAgain 发表评论于 
最终还是要看稳定性与成品率。 估计离商业化还有一段距离。
yumidiee 发表评论于 
实验室到商业生产到市场成功至少得5年，还是最最乐观的估计。
hachimada 发表评论于 
楼下连文章也没看懂，就别冒充内行了。哈哈。
乱石穿空 发表评论于 
新原理可以，弯道超车也可以，那要另辟蹊径重起炉灶才行。还是用光靠，365nm要超过13.5nm，几万元的灯泡就可以代替DUV和EUV的激光器？以为全世界的半导体人都是傻子？还是别吹了，让人笑话。
乱石穿空 发表评论于 
是了，文中说用在“大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片和超表面成像器件”上。原来不是超大规模集成电路上。这是两码事。也就是骗骗外行了。你可以做出22nm的几个器件，成品率10%。这和大规模生产一月几万片12吋晶圆每个芯片上几十亿个晶体管完全是两码事。
乱石穿空 发表评论于 
在极紫外EUV13.5nm之前的深紫外DUV光源波长是193nm.365nm怎么在深紫外和极紫外之间了？光源的映射极限受波长限制，这是物理极限，没法突破的。你波长比别人长，还不用多次曝光，骗谁呢？台积电用深紫外做到7nm，你22纳米怎么就全球第一了呢。
路边的蒲公英 发表评论于 
postlist001 发表评论于 2018-11-29 23:08:16
asml的光刻机极限是7纳米？那台积电今天要在台南投产3纳米生产线是怎么回事？
=================================================
按照天朝这个技术路线，如果ASML能达到7纳米，台南投产3纳米， 
天朝可以达到2纳米，1 纳米。
长剑倚天 发表评论于 
在光刻机研制方面，我们一直有两个选择：沿用ASML的老路走一遍，还是另辟蹊径通过新原理弯道超车？我们国家很有钱，两个选择都在做。而这台SP光刻机的研制成功，就是让我们看到了弯道超车的可能性。其实从原理上，这简直就不是弯道超车了，而是在别的人还在绕山路的时候，我们尝试着打了一条隧道……虽然还没有完全挖通，但曙光就在眼前了。这就是这台新式光刻机的最大意义！

 
罗马军团 发表评论于 
其实这件事在荷兰忽然肯卖给中国先进光刻机那时候，就已经有端倪了，我当时就见过文章说他们再不卖恐怕以后就没多少机会卖了。因为中国的方法和他们不同，他们用波长更短的灯，但是越往高频越难，现在再走一小步价格都会指数上涨。然而中国用了不同的方法，中国是用倍频技术，将波长较长的光4倍频8倍频获得超高频光，这个技术显而易见比去提高光源频率的前景远大得多。倍频技术说起来很简单，因为世界上存在一种倍频晶体，光照进去会产生倍频光，因此只要倍频光的转换率足够的高，那么这就可以多级串联，2倍频，4倍频，8倍频，16倍频。。。只要你有合适的晶体。
共-产-党 发表评论于 
又一航公横空出世！不信？走着瞧！
当年的汉芯的报道，比这还牛！
美国一制裁，光刻机就做出来了？如果科技，制造这么容易突破的话，人人类早就以光速飞行了。
山地 发表评论于 
这就是为什么ASML公司以前不卖给中国光刻机，现在愿意卖给中国光刻机的原因。
罗马军团 发表评论于 
postlist001 发表评论于 2018-11-29 23:08:16 asml的光刻机极限是7纳米？那台积电今天要在台南投产3纳米生产线是怎么回事？
-----
这很正常，极限只是说有比较保证的精度，再往高就没保证了，出来的可能行，也可能是残品。那就挑呗，良品率是下降了，但是新制程会带来许多好处，由此带来价格和利润的上升，这就看合算不合算了。
罗马军团 发表评论于 
楼下别呵呵了，你怎么知道中国没有踏踏实实做基础工业的。前几年中国因为没钱，基础理论研究的确是收缩得很厉害，当然其实本来也没多少基础。但是基础工业从来没有放下过，否则哪里有现在的工业能力。
postlist001 发表评论于 
asml的光刻机极限是7纳米？那台积电今天要在台南投产3纳米生产线是怎么回事？
agare 发表评论于 
Hehe, 当真你就输了。这是基础工业。得踏踏实实，没几十年不行的。还有从事基础工业的待遇要大幅高上去，这样才能让这些人踏踏实实研究。你觉得现在这个环境可能吗？
swmpsp 发表评论于 
狼来了喊多了就不灵了，绝大多数人也确实不相信。但总有极少数人，因为某种目的或原因，必须相信
长剑倚天 发表评论于 
台积电和三星还打过技术产权的官司，一个越南华人从台积电被三星挖走，才让三星做大的。台积电控告三星偷技术，好像后来也不了了之啦。
罗马军团 发表评论于 
相当长久 发表评论于 2018-11-29 22:44:18 懂的网友能否解释一下， 这22纳米的程度和7纳米不是相差很多吗？ 有什么值得庆幸的？又为何强调是全球首台新式。。。？
------------------

“光刻机是集成电路制造业的核心角色。目前，使用深紫外光源的光刻机是主流，成像分辨力极限为34纳米，分辨率进一步提高要用多重曝光等技术，很昂贵。” 这句话看懂了没？中国这台用深紫外灯突破了34纳米极限。7纳米那个是用极紫外灯做的。有什么区别？当然就是因为价格差别。如果能把极紫外灯降到深紫外灯的价格，谁还会用深紫外呢？
kingofLiu 发表评论于 
相当长久 发表评论于 2018-11-29 22:44:18
懂的网友能否解释一下， 这22纳米的程度和7纳米不是相差很多吗？ 有什么值得庆幸的？又为何强调是全球首台新式。。。？

我知道我有什么地方没搞懂。请有知识的网友给予点拨，看点在哪儿？谢谢

———-
使用的光源不一样，而且价格便宜，22纳米只是第一步，以后会更小，关键是这事自己做的，不受别人限制，强如台积电三星也都是用买的光刻机。
长剑倚天 发表评论于 
刚刚研制成功的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备意味着什么？对国内芯片行业有何影响？
去知乎，按这个标题查询。
长剑倚天 发表评论于 
相当长久 发表评论于 2018-11-29 22:44:18 
懂的网友能否解释一下， 这22纳米的程度和7纳米不是相差很多吗？ 有什么值得庆幸的？又为何强调是全球首台新式。。。？
======================================================================
知乎上有相关议题的讨论，你可以去了解一下。
为什么这个牛，是因为突破了现有世界光学衍射的极限，而不是22纳米的问题。
蓝蓝馨 发表评论于 
哈哈哈
孙小空2018 发表评论于 
所以才有现在的毛衣战。
毛衣战本质根本不在贸易。而是用贸易为借口，阻止中国发展而已。因为美国发现，中国这个家伙，正在不断逼近，而人家是看得到真实数据的。
当然，也不要过度神话中国，美国只是提前动手而已，不是说中国就会超过美国。这是一种防微杜渐。

当然，若中国真的很差，美国也完全没必要弄这个毛衣战了。

所以，毛衣战的开始，说明中国确实有可能赶上美国，但短期内不可能，现在是在摇篮里。
duty 发表评论于 
很好，缩短差距，打破垄断。
长剑倚天 发表评论于 
试想一下，当中国芯片以白菜价，相同质量和美国芯片在国际市场竞争的时候，该是一种什么情形？？？
大米袋 发表评论于 
一个汞灯只要几万，哈哈，以后光刻机就是白菜价，人人买的起。
相当长久 发表评论于 
懂的网友能否解释一下， 这22纳米的程度和7纳米不是相差很多吗？ 有什么值得庆幸的？又为何强调是全球首台新式。。。？

我知道我有什么地方没搞懂。请有知识的网友给予点拨，看点在哪儿？谢谢
sylphy 发表评论于 
蓝靛厂 无论哪国半导体材料都多少需要进口吧。
路边的蒲公英 发表评论于 
宣布的是22纳米，其实他们现在已经做到10纳米。
媚眼凤姐 发表评论于 
"ASML的EUV光刻机还要在真空下使用。"

难道你的不需要?
novint 发表评论于 
让子弹再飞一会
长剑倚天 发表评论于 
实话说，美国现在搞限制已经晚啦！早干嘛去啦？
现在中国高科技不是没有好的基础，人财物都有，唯一缺的就是市场的支持！
美国正好提供了这个让出市场的机会，这事儿，中国高科技公司要集体感谢美国政府的大力支持！
路边的蒲公英 发表评论于 
对于这项超分辨光刻技术，中科院院士周光召评价：“这些成果是基础理论和工程应用紧密结合的全链条创新典范，是我国具有原创性、能引起国际引领作用的代表性工作。”
我爱宝岛台湾 发表评论于 
舔美一族又不开心哦。—啃定是中国偷别人技术。
长剑倚天 发表评论于 
南岭老三 发表评论于 2018-11-29 22:22:13 
实验室通过鉴定。呵呵。拿到生产线试试？
====================================================
生产线调试不也是建立在实验室成功基础上的吗？
关键还是市场！只要市场有需求，不愁国产芯片出不来，美国限制芯片出口正好给了中国芯片行业的提速机会，倒霉的只能是美国芯片公司！
lakelavon 发表评论于 
呵呵
 
 
[ 打印 ]
[ 加入书签 ]
阅读 () ┆ 评论 (0)
评论
目前还没有任何评论
登录后才可评论.