作者:yswyx
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来源:知乎
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这个新闻出来以后,舆论出现了两个极端,一堆人说很牛,一堆人说吹牛。说很牛的外行居多,说吹牛的业内人士居多(但不是最专业的)。实际上这两种说法都对,又都不对。我来具体分析一下。
说很牛的,的确是世界级的工作,这一点毋庸置疑。超分辨力光刻技术有很多种,等离子激元只是其中一种,技术的提出已经有十几年了,其它的还有泰伯光学,全息,双光子,光子能量叠加等技术,而且已经有了商业化设备。针对等离子激元,真正做成一个成型的设备,这是我第一次见到。这是非常了不起的。而且,做到波长十分之一以下的分辨力,并且是大面积的实现,也是其它技术很难实现的。这是国内光刻领域非常重要的技术突破,而且是在很艰苦的条件做出的,很不容易。
说吹牛的,很多国内产业届的人士,限于对最新技术的了解,认为365nm无法获得超分辨力结构,甚至有人拿新闻中的照片说没戴口罩来说事儿,是很不负责任的。要说吹牛,实际要指出的是这个技术自身的局限性。以目前的技术能力,只能做周期的线条和点阵,是无法制作复杂的IC需要的图形的。更进一步,以光电所目前的实力,IC制造需要的超高精度对准技术,也是无法实现的。因此这项技术在短期内是无法应用于IC制造领域的,是无法撼动ASML在IC制造领域分毫的。它所面向的应用领域,是光学器件,比如高精密光栅,光子晶体阵列等等,虽然狭小,但需求仍然非常高端和强烈。从这一点上说,新闻报道的某些方面是有吹牛的成分的,但以目前的形势,可以理解。只是那些所谓的专业人士没黑到点子上。
综合来看,这项技术在很关键的领域实现了突破,至少获得了和欧美技术交换的基础,这是非常重要的事情。虽然短期无法实现在IC领域的应用,但形成了一定的威胁,长期还是有可能取得更重要的突破的。而这项技术最可贵的是,可以在光学器件制造领域迅速的得到应用,具有现实的商业化意义,和巨大xx价值。
在这里,请记住几个人的名字,杜春雷,罗先刚,胡松,叶甜春。没有他们的引领,创造,坚持和支撑,就没有取得成果的今天。还有那些在为中国半导体事业奋斗在一线的人们,致敬!
有个细节请各位注意,这篇文章是军报记者报道的,信息量很大。